Los requisitos de aire comprimido para la fabricación de semiconductores se han actualizado desde el estándar tradicional de clase 0 sin aceite al vacío ultra limpio. Tomando el proceso de producción de chips de 7 nm como ejemplo, la litografía necesita una fuente de aire con contenido de oxígeno <1ppm y tamaño de partícula <0.1μm, mientras que
el proveedor de compresores de tornillo ZAKF ha mejorado la pureza a 10-⁷Pa a través de la innovación de materiales, la actualización de precisión y el monitoreo inteligente, que se ha convertido en el equipo central de TSMC y otras fábricas de obleas.
I. avances tecnológicos: las tres innovaciones de Zakf para semiconductores
Diseño sin aceite de toda la cadena
Se usa 316L de acero inoxidable + recubrimiento de cerámica (por ejemplo, recubrimiento de carburo de silicio de Zakf) para el rotor y la cámara, con una rugosidad de la superficie de RA ≤ 0.2 μm, que ha reducido la concentración de partículas en la fuente de aire de 500 partículas por m³ a 12 partículas por M³ después de la aplicación en una fábrica lcd lcd. El sistema de sellado está hecho de fallas de goma perfluoroetra (FFKM) + de aire, la velocidad de fuga es <1 × 10-⁹Pa ・ m³/s bajo-0.09MPA Vacuum, que se encuentra con el estándar semi S2. El diseño sin aceite del compresor del compresor Zakf elimina la contaminación de aceite lubricante, que coloca la base de la base de la base de la semiconductores del compresor de la semiconductores. El proveedor del compresor de tornillo zakf
Proceso de mecanizado de ultra precisión
El proveedor del compresor de tornillo ZAKF utiliza un centro de mecanizado alemán de 5 ejes para fabricar rotor, precisión dental de ± 0.002 mm, en comparación con el proceso tradicional 5 veces. Las mediciones en una oblea Fab en Taiwán muestran que el contenido de aceite en el aire comprimido se ha reducido de 0.01 mg/m³ a 0.003 mg/m³ (el límite inferior de detección), que cumple con los requisitos para el vacío ultra limpio. Esta capacidad de procesamiento de precisión garantiza que no se liberen partículas de metal durante el proceso de compresión y cumpla con los estrictos requisitos de los semiconductores para la pureza de la fuente de aire.
Sistema de monitoreo de pureza inteligente
El equipo del proveedor del compresor de tornillo de zakf integrado con contador de partículas de 0.1 μm y sensor de oxígeno de resolución de 0.1ppm, datos de datos en tiempo real al sistema MES de fábrica. Los algoritmos de IA pueden ajustar automáticamente la velocidad de velocidad, después de la aplicación de una fábrica de chips de memoria debido a la contaminación de la fuente de gas causada por la pérdida de rendimiento reducida en un 78%. A través del monitoreo en tiempo real y el ajuste inteligente, ZAKF se da cuenta de la optimización dinámica de la pureza de la fuente de gas y evita afectar el rendimiento del chip debido a los problemas de la fuente de gas.
Actualización del estándar de fuente de gas semiconductor en tres dimensiones
El estándar tradicional de Clase 0 ya no puede cumplir con los requisitos de la litografía EUV y otros procesos de vanguardia. Los proveedores de compresores de tornillo de zakf promueven los nuevos requisitos estándar:
Control de partículas: ≥0.05 μm de partículas <5 /m³ (ISO 14644-1 Clase 5), un aumento de 20 veces en comparación con el estándar original (≥0.1 μm de partículas <100 /m³); Contenido de oxígeno: proceso de fotolitografía <100/m³; Contenido de oxígeno: proceso de fotolitografía <partículas de 1000m <100/m³). Contenido de oxígeno: <1ppm para litografía, una mejora de 10 veces sobre el requisito tradicional (<10ppm);
Vapores de aceite: límite de detección de espectrometría de masas de <0.001 mg/m³, con emisiones cercanas a cero.
Estas actualizaciones contribuyen directamente al avance de los procesos de fabricación de semiconductores, asegurando la estabilidad de los procesos de 7 nm y más avanzados.
Zakf escenarios de aplicación típicos y casos de la industria
Soporte de máquina de litografía EUV
El equipo ASML EUV requiere un vacío de fuente de gas ≤ 10-⁵pa, proveedores de compresores de tornillo ZAKF para proporcionar compresor de tornillo sin aceite y bombas criogénicas combinadas de soluciones en el centro de I + D de los Países Bajos para lograr una aspiradora de 10 ⁷ ° PA, el vacío de la fuente de gas ≤ 10-⁷pa. ⁷PA Vacío Ultra-Clean en el Centro de I + D de los Países Bajos, asegurando que la tubería de transmisión de luz ultravioleta extrema esté libre de contaminación del aceite y proporcione una fuente de aire garantizada para imágenes de alta precisión de litografía EUV.
Limpieza de obleas 3d nand
Una planta de micrones utiliza un
compresor de aceite lubricado con agua del compresor de tornillo Zakf con un filtro de 0.01 μm para mantener el punto de rocío de la fuente de gas a -70 ° C, evitando la oxidación de la oblea y aumentando los rendimientos en un 3,2%. Esta solución no solo cumple con los requisitos de secado del proceso de limpieza, sino que también elimina la contaminación secundaria a través del diseño sin aceite.
Proceso de unión de embalaje avanzado
Sun Micron utiliza el compresor de desplazamiento libre de aceite ZAKF (ruido ≤ 62dB) en la soldadura por chip, la pureza de la fuente de gas cumple con los requisitos de unión de cables de oro de 15 μm y la tasa defectuosa de unión se ha reducido de 0.8% a 0.15%. El equipo de Zakf garantiza la operación de precisión del proceso de empaque avanzado con sus características de baja vibración y alta pureza.
Iteración estándar de la industria y respuesta tecnológica de ZAKF
El estándar S22.11 de SEMI, lanzado en 2024, refina la clase de compresores semiconductores sin aceite a la clase 0.1. El proveedor de compresores de tornillo de Zakf ha invertido RMB 200 millones en la construcción de un laboratorio ultra limpio, y su equipo, con filtros ULPA (99.9995% de eficiencia) + dispositivo de descomposición de ozono, se realiza en líneas de producción SMIC que el TOC de la fuente de gas es <5PPB, excede con creces el requisito de la industria. Este avance tecnológico ha convertido a ZAKF en un proveedor de referencia de equipos de fuente de gas semiconductores, lo que lleva al estándar de la industria al vacío ultra limpio.
De la evolución del proceso de 14 nm a 3 nm, los requisitos de fabricación de semiconductores para la fuente de gas han cambiado de "libre de aceite" a "extremadamente puro", el proveedor de compresores de tornillo de zakf no solo admite la litografía EUV, la deposición de la capa atómica y otros procesos de vanguardia, sino que también promueve el estándar de la industria del vacío ultra limpio. A través de los avances en materiales, procesos y tecnologías inteligentes, los proveedores de compresores de tornillos Zakf no solo han apoyado procesos de vanguardia, como la litografía EUV y la deposición de la capa atómica, sino que también han promovido la mejora integral de los estándares de la industria. Con la llegada de la producción en masa de 3NM en 2025, las soluciones de vacío ultra limpio de Zakf se convertirán en la competitividad central del sistema de fuente de gas Fab Wafer, proporcionando una garantía sólida para la precisión y el rendimiento de la fabricación de semiconductores.
